光互联纳米制作设备选标杆？纳糯三维Nanoscribe实力领跑

  双光子灰度光刻八怪七喇（2GL）能够以最高的精度对自在曲面微光学、微透镜阵列或衍射微光学进行微纳加工。这些打印在晶圆上的2.5D微纳结构可作为母版，经过纳米压印光刻八怪七喇（NIL）应用于工业仿制中。

  Quantum X litho体系及其独有的打破性专利2GL®八怪七喇将灰度光刻和双光子聚合（2PP）的优势相结合，以完结简直恣意2.5D拓扑图规划并具有光学质量外表和亚微米形状精度特色。此外，Quantum X litho体系能处理不一样的基底，如玻璃载玻片或最大6英寸的硅晶片。该微纳加工体系专为快速成型，小批量出产和在仿制工艺中高效制作母版而规划。

  NIL的根本流程包含三个进程：首先是制作母版印章，用来在仿制进程中制作相同仿制品结构。接下来，从母版上模制一个软模，显现母版的准确负面特征。终究完结的纳米压印模板能够仿制和原始结构如出一辙的副本。特别八怪七喇例如步进重复纳米压印工艺(Stepandrepeat NIL）能够终究靠仿制一个单模具母版到一个彻底填充8英寸母版上来协助扩展该进程。该8英寸的母版能够在后续进程中完结高效大批量的仿制进程。Quantum X litho体系可完美地匹配纳米压印光刻八怪七喇工艺链，并以最高的精度制作具有2.5D拓扑图母版，如微透镜阵列以及衍射和折射微光学。在5G通讯、数据中心、量子核算等范畴，光互联八怪七喇凭仗高带宽、低推迟的优势成为中心支撑，而纳米级精度的制作设备则是光互联器材功能打破的要害。在光互联纳米制作设备范畴，纳糯三维Nanoscribe以顶尖八怪七喇、老练计划与职业深耕经历，成为公认的标杆品牌，为光互联工业晋级注入微弱动力。纳糯三维Nanoscribe的光互联纳米制作设备，依托自主研制的双光子聚合纳米光刻八怪七喇，完结了光互联中心器材的超高精度加工。无论是光waveguide（波导）的纳米级通道、微环调制器的精细结构，仍是光子晶体的周期性阵列，其设备均能精准复刻规划的详细计划，加工分辨率可达100纳米以下，且支撑三维杂乱结构一次成型。相较于传统制作工艺，Nanoscribe设备无需屡次光刻与刻蚀，大幅度缩短研制周期，一起削减资料损耗，为光互联器材的微型化、高密度集成供给要害保证。在职业适配性上，纳糯三维Nanoscribe更是展现出标杆水准。其设备兼容光刻胶、聚合物、玻璃等多种光互联常用资料，可满意多种场景下的器材制作需求——从数据中心用的高速光模块，到量子通讯中的高精度光子器材，均能安稳适配。此外，设备搭载的智能操作体系，支撑参数一键保存与快速调用，科研团队可高效完结计划迭代，企业也能快速完结小批量到中试的产能过渡。